우리대학 김석(기계) 교수 연구팀이 기판을 훼손하지 않고 부착·분리할 수 있는 섀도 마스크(Shadow mask)를 개발했다. 섀도 마스크는 나노 단위의 소자와 회로를 제작하는 데 쓰이는 스텐실 리소그래피의 도안이다. 기존의 섀도 마스크는 곡면에서 적용되기 어려웠지만, 연구팀은 선행 연구에서 개발한 아세톤으로 실리콘을 분리하는 기술을 이용해 평면과 곡면에서 모두 적용될 수 있는 미세 두께의 실리콘 섀도 마스크를 개발했다. 또한 폴리디메틸실록산을 이용해 포스트잇과 같이 편리하게 마스크를 부착 및 분리할 수 있는 접착제를 만들어 곡면의 기판에 선명한 패턴을 인쇄했다. 김 교수는 “△높은 해상도 △곡면 호환성 △다층 패터닝을 모두 이룬 섀도 마스크를 개발했다. 사용한 후에도 식각액 등으로 세척하면 마스크를 충분히 재사용할 수 있어 잠재력이 무궁무진하다”라고 전했다. 이번 연구는 국제 학술지인 Advanced Materials Technologies의 앞 속표지 논문으로 게재됐다.