차세대 반도체용 리소그라피 기술 개발 “기대”
수소결합을 이용해 지금까지의 기술로는 불가능하다고 여겨졌던 비대칭적이며 폭 간격이 수 나노미터(1 nm는 머리카락 10만분의 1)에 불과한 나노패턴을 실리콘 기판 위에 구현하는 방법이 개발됐다. 우리대학 화학공학과 블록공중합체 자기조립연구단 김진곤 교수ㆍ한성현 박사 연구팀은 미국 텍사스주립대학의 벤캣 가네산(Venkat Ganesan) 교수팀과 공동으로 바텀업(Bottom up)의 자기조립방법으로는 불가능했던 패턴 간격이 다른 비대칭 나노패턴을 실리콘 기판 위에 수직으로 정렬하는 기술을 개발, 나노분야 권위지인 ACS Nano지 온라인판 최신호를 통해 발표했다.
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