향후 10년간 반도체나 나노기술의 성공과 실패를 좌우할 미세 오염물질 제거기술이 국내 연구진에 의해 세계 최초로 개발됐다. 우리대학 이진원(기계) 교수팀은 아주 작은 ‘나노탄환’입자를 생성, 이를 초고속으로 오염입자에 충돌시키는 획기적인 방법을 이용해 최근 10 nm 크기의 오염물질을 완벽하게 제거하는 실험을 시도하여 세계 최초로 성공했다.
나노기술분야 권위지인 <나노스케일 연구(Nanoscale Research Letters)> 최신 온라인판에 게재된 이번 연구는 특히 최근 선진국들이 경쟁적으로 개발에 나서고 있는 10나노급 반도체 생산에 필수적인 기술이어서 더욱 주목을 끌고 있다.
연구팀은 지난 2010년에도 저온 입자빔 기술을 이용해 20나노급 오염제거 기술 개발에 성공한 바 있지만 이번 기술은 상온에서도 사용할 수 있는 입자빔 기술로 훨씬 빠르고 편리하게 오염제거를 할 수 있어 실용성과 산업화 가능성을 높였다.
또, 이 기술은 오염제거설비를 제품화해 새로운 산업을 창출하는 효과도 기대할 수 있으며 생체재료의 제거와 조직 처리를 위한 기술로도 응용이 가능해 나노기술뿐만 아니라 다양한 생체조직 이용기술 분야로도 활용할 수 있다.
이 교수는 “나노급 반도체는 물론 나노크기의 장치의 생산성을 좌우하는 나노오염제어기술이 완성됨으로써 나노기술을 응용한 제품의 생산성도 획기적으로 향상될 것”으로 기대된다며 “이 기술은 반도체 뿐 아니라 생체공학, 재료가공 등 다양한 나노가공공정에 두루 응용이 가능하다”고 밝혔다.