방사광 이용 펜타센 분자막 나노패턴 기술 개발
방사광 이용 펜타센 분자막 나노패턴 기술 개발
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  • 승인 2010.10.13 14:43
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반도체 소자 등 디바이스에 실제 적용 가능해 고효율성 기대

 포항가속기연구소(PAL, 소장 이문호) 황찬국 박사팀은 포항방사광가속기의 극자외선을 이용, 『펜타센 나노패턴』기술을 개발하여 반도체의 실제 적용뿐만 아니라 각종 디바이스의 효율성을 더욱 증대시킬 것으로 기대 된다. 이러한 연구성과는 미국화학회에서 발행하는 나노분야의 세계적인 권위지 ‘에이씨에스 나노(ACS Nano)’ 9월호에 게재되었다.

 황찬국 박사팀은 펜타센 분자가 극자외선에 의해 상호결합이 일어난다는 사실을 확인하고 이를 이용하여 나노미터 크기에서 높이와 폭의 조절이 가능한 30 nm (나노미터: 10억분의 1 m) 급 분자 패터닝에 성공했다.
현재 반도체 미세 패턴 제작 공정에는 주로 폴리머, 화학적 자기조립법을 이용한 분자막이 주로 사용되고 있다. 하지만 이들은 열적 안정성이 떨어지고, 분자막 자체의 불순물이나 화학적 현상 과정에서 생기는 잔류물로 인해 전기적 오류를 일으키는 경우가 많다.

 이번에 개발된 펜타센 나노패턴 기술은 진공상태에서 성장된 펜타센 분자막을 사용함으로써 보다 깨끗하고, 안정성이 크며, 패턴 제작 과정에서 잔류물이 거의 없어 친환경적이라 할 수 있다.

 또한, 미세패턴의 폭, 너비 조절이 가능해 이를 잘 활용하면 10 nm 까지도 제작할 수 있어 집적도 높은 반도체 생산이 가능하게 된다.


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