학진 ‘우수연구성과’ 51선 선정
학진 ‘우수연구성과’ 51선 선정
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  • 승인 2008.01.01 00:00
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화공 용기중·신소재 조문호 교수
BK21 화공인력양성사업단(화학공학과) 용기중 교수와 지식산업형소재시스템사업단(신소재공학과) 조문호 교수의 연구성과가 한국학술진흥재단(이하 학진) 중점연구소(소장 신소재 허종 교수) 과제인 ‘나노포토닉스 신소재 개발’을 통해 학진이 선정하는 ‘2007년 우수성과 51선’에 선정되었다.
용 교수는 ‘신 나노이종구조 및 나노와이어 합성기술 개발’로, 조 교수는 ‘고품위 Si1-XGeX(0≤X≤1) 나노선의 합성과 형상 제어 및 광특성 분석’으로 우수성과로 뽑혔다.
용 교수는 학진 중점연구소 과제인 ‘나노포토닉스 신소재 개발’을 통해 세계 최초로 텅스텐 산화물-텅스텐 나노이종구조를 개발, 주목을 받았다. 이 연구결과는 재료분야에서 세계적 권위지인 ‘어드밴드스 머터리얼스’에 게재되기도 했다.

조 교수는 결함이 최소화된 단결정 Si1-XGeX반도체를 촉매 기상 증착법을 이용, 일차원적인 나노선구조로 합성해 이 반도체를 광소자로 응용할 수 있는 기반을 제공한 것으로 평가받고 있다. 이 연구결과는 나노기술 분야의 권위지 ‘나노 레터스’에 실렸다.
학진은 학진의 연구지원을 통해 창출된 우수 연구성과를 학문분야별로 적극 발굴해 연구지원 성과를 축적하고, 연구자에게 연구의욕과 자긍심을 고취시키는 한편 일반인들에게 이를 널리 알리고자 지난해부터 우수성과를 선정겧峠Η杉? 올해는 학진이 지원한 연구과제 중 2006년에 발표된 논문·특허·저서·역서 등의 연구성과 6,500여건을 대상으로 심사해 모두 51개의 우수 연구성과를 선정했다.

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