在美 동문 류두열 박사, ‘사이언스’에 표면변형기술 발표
우리대학 석·박사 출신의 류두열(36세) 미 메사추세츠주립대 연구원(Post-doc)은 IBM사와의 공동연구를 통해 다양한 물질 표면에서 나노구조를 임의로 조절 가능한 ‘표면 변형 기술’을 개발하는데 성공했다. 이 연구 결과는 미국에서 발행하는 세계적 과학저널 ‘사이언스’ 8일자에 발표됐다.
류 박사는 열을 가하면 단단하게 굳어지는 열경화 반응을 이용하여 실리콘 웨이퍼뿐만 아니라 금속, 반도체 물질, 고분자 물질 등 다양한 물질의 표면 위에 6nm(1nm는 10억분의 1m) 크기의 초박막을 생성시키고, 이를 토대로 고분자 조합체(블록 공중합체)의 나노구조를 수직으로 배열시키는데 성공했다. 즉, 나노구조를 임의로 제작하고 제어하는 것이 가능해진 셈이다.
또한 기존의 방법으로 초박막을 형성시키기 위해서는 2~3일 정도 소요되던 가공시간을 불과 10분 이내로 단축할 수 있어, 이 기술의 상용화를 크게 앞당길 수 있게 됐다.
지금까지의 기술로는 고분자 조합체의 나노구조를 수직으로 배열시켜 원하는 나노구조물을 만드는 것이 단지 실리콘 웨이퍼 표면에서만 가능했다. 따라서 실제 나노구조 제작에 있어서 더욱 많이 요구되고 있는 반도체 물질이나 금속, 고분자 등에서는 불가능했다.
류 박사의 이번 연구는 물질의 제한을 받지 않고 다양한 범위에서 나노구조 제작이 가능해져, 나노기술 개발의 획기적인 전환점을 마련한 것으로 평가받아 화학분야 최고 권위지인 케미컬 엔지니어링 뉴스(C&E News) 11일자에도 소개됐다.
류 박사의 지도교수였던 우리대학 화학공학과 김진곤 교수(블록 공중합체 자기조립 창의연구단장)는 “이 기술을 이용하면 고분자 기판이나 금속 등에도 자유자재로 나노구조물을 제작할 수 있기 때문에, 차세대 고밀도 정보저장 매체와 나노 바이오칩 개발 등의 분야에 획기적으로 이용할 수 있을 것으로 기대된다”고 말했다.
저작권자 © 포항공대신문 무단전재 및 재배포 금지
